中微公司發布雙反應台電感耦合等離子體蝕刻設備Primo Twin-Star（R）
為邏輯晶片和存儲晶片等應用提供高性價比的蝕刻解決方案 上海2021年3月16日/美通社/--中微半導體設備（上海）股份有限公司（以下簡稱"中微公司" ，上交所股票代碼：688012 ）在SEMICONChina 2021期間正式發布了新一代電感耦合等離子體（ICP）蝕刻設備PrimoTwin-Star® ，用於IC元件前道和後道製程導電/介電質膜的蝕刻應用。中微公司雙反應台電感耦合等離子體蝕刻設備PrimoTwin-Star®基於中微公司業已成熟的單台反應器電感耦合等離子體（ICP）蝕刻技