中微發佈第一代電感耦合等離子體蝕刻設備Primo nanova(R)

用於製造最先進的存儲和邏輯晶片 上海2018年3月13日電/美通社/--中微半導體設備(上海)有限公司(以下簡稱「中微」)在本周舉辦的SEMICONChina期間正式發佈了第一代電感耦合等離子體蝕刻設備Primonanova®,用於大批量生產存儲晶片和邏輯晶片的前道工序。該設備採用了中微具有自主智慧財產權的電感耦合等離子體蝕刻技術和許多創新的功能,以幫助客戶達到晶片製造製程的關鍵指標,例如關鍵尺寸(CD)蝕刻的精准度、均勻性和重複性等。其創新的設計包括:完全對稱的反應腔,超高的分子泵抽速;

看更多...